描述

810-091934-00 LAM

产品概述

810-091934-00是LAM Research公司生产的用于等离子体刻蚀应用的RF发生器。该发生器具有以下特点：

高性能：810-091934-00发生器可提供高达500 W的RF功率，可满足各种等离子体刻蚀应用的需求。它还具有高效率和低抖动，可确保卓越的工艺性能。

高可靠性：810-091934-00发生器采用坚固耐用的设计，可在恶劣环境中可靠运行。它具有多种保护功能，可确保发生器和连接设备的安全。

易用性：810-091934-00发生器易于配置和使用。它提供多种管理选项，包括Web GUI、CLI和SNMP。它还提供易于使用的软件工具，用于配置和监控发生器。

产品参数

电源电压：208-480 V AC

功耗：<2 kW

工作温度：0°C至+50°C

相对湿度：0%至95%（非冷凝）

防护等级：IP54

尺寸：610 mm x 510 mm x 254 mm

重量：50 kg

产品应用

810-091934-00发生器可用于各种等离子体刻蚀应用，包括：

微电子制造

光电子器件制造

数据存储器制造

薄膜沉积

品牌介绍

LAM Research是一家全球领先的半导体制造设备供应商。该公司成立于1977年，总部位于美国加利福尼亚州弗里蒙特市。LAM Research的产品和服务用于制造各种半导体器件，包括集成电路、LED和太阳能电池。

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