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ZYGO ZMI-4104C | 4通道 0.15nm分辨率 0.2nm精度 循环误差补偿 纳米定位闭环反馈

¥ 4,674.00

产品核心摘要

  • 型号 (Model):ZMI-4104C
  • 品牌 (Brand):ZYGO(隶属于 AMETEK 阿美特克集团)
  • 系列 (Series):ZMI™ 位移测量干涉仪系列
  • 核心功能 (Core Function):位移测量干涉仪板卡,利用外差干涉测量技术,将干涉仪输出的光信号转换为高精度位移数据,实现亚纳米级位置测量与闭环反馈
  • 产品类型 (Type):位移测量板卡 / 干涉仪电子装置 (Displacement Measuring Board)
  • 关键规格 (Key Specs):4 轴/板 / 6U VME64x 板卡 / 亚纳米级分辨率(0.15 nm)/ 最大速度 ±2.55 m/s / 最大速度下精度(σ)0.2 nm / 最小光功率 1.0 µW / 循环误差补偿(Cyclic Error Reduction)
  • 兼容激光器:7702、7714、7724
分类: SKU: ZMI‑4104C ZYGO
  • 销售经理:白佳乐
  • 电话:15340667322(微信同号)
  • QQ:3395949709
  • 山西省太原市杏花岭区解放路175号万达中心A座3301
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描述

产品深度介绍

ZYGO ZMI-4104C 是 ZMI™ 系列位移测量干涉仪中的高端测量板卡,采用 6U VME64x 板卡形式,属于 AMETEK 旗下 ZYGO 品牌的核心计量产品。它在整个纳米定位系统中扮演的角色类似于”精密标尺”——通过外差干涉测量技术(Heterodyne Interferometry),将激光干涉仪输出的光信号实时解算为位移数据,为纳米级定位系统提供闭环位置反馈,确保运动平台在亚纳米尺度上的精确控制。ZMI-4104C 的核心技术亮点是循环误差补偿(Cyclic Error Reduction)。循环误差是所有位移干涉测量中固有的非线性误差,其他厂商的干涉仪系统循环误差可高达 10-20 nm,而 ZYGO 的专有技术能够自动、无缝地将循环误差消除至测量噪声基底以下,从而实现最高的测量精度。从硬件设计来看,ZMI-4104C 采用 6U VME64x 标准板卡形式,可模块化地添加到 VME 机箱中,支持系统扩展到多达 64 个测量轴。单块板卡提供 4 个测量轴,是 ZMI 系列中轴密度最高的型号。该板卡对信号幅度变化不敏感,具有高信噪比相位测量能力,即使在零速状态下也能消除虚假计数。从型号体系来看,ZMI 系列包含多个型号,按定位从低到高排列:

  • ZMI 501A:独立外壳式,2 轴/板,分辨率 1.24 nm,适用于一般位移测量
  • ZMI 2400:6U VME 板卡,1 或 2 轴/板,分辨率 0.31 nm,适用于高精度计量
  • ZMI 4004:6U VME 板卡,4 轴/板,分辨率 0.15 nm,适用于高端计量
  • ZMI 4104C:6U VME64x 板卡,4 轴/板,分辨率 0.15 nm,精度 0.2 nm,是系列中精度最高的型号

从实际应用来看,ZMI-4104C 已被广泛用于纳米定位系统的闭环控制。例如,知名纳米定位厂商 Physik Instrumente(PI)在其 PICMAWalk 纳米定位器的性能表征中,使用 ZYGO ZMI 系统(由 7702 激光头、差分干涉仪 DPMI 和 4104C 测量板组成)实现了 0.5 nm 步进精度的闭环控制,充分验证了该板卡的测量能力。从应用场景来看,ZMI-4104C 广泛用于半导体制造(掩模/晶圆/LCD 测量检测工具、CD-SEM)、光刻设备(电子束和激光掩模写入器、扫描器和光学步进器)、高精度校准(高频或高分辨率机械运动校准)、工艺设备(芯片贴装机、钻孔工具、存储器修复工具、探针台)等领域。

关键技术规格

  • 完整型号:ZMI-4104C
  • 所属系列:ZMI™ 位移测量干涉仪系列
  • 产品类型:位移测量干涉仪板卡
  • 板卡形式:6U VME64x
  • 测量轴数:4 轴/板
  • 位置分辨率:0.15 nm(亚纳米级)
  • 最大速度:±2.55 m/s
  • 最大速度下精度(σ):0.2 nm
  • 最小光功率:1.0 µW
  • 循环误差补偿:是(专有技术,自动消除非线性误差)
  • 兼容激光器:7702、7714、7724
  • 测量原理:外差干涉测量(Heterodyne Interferometry)
  • 系统扩展能力:支持模块化扩展至最多 64 个测量轴
  • 信号特性:高信噪比相位测量,零速无虚假计数
  • 抗干扰能力:对信号幅度变化不敏感
  • 适用行业:半导体制造、光刻、精密计量、纳米定位、科研