描述
详细参数表
| 参数名称 | 参数数值 |
|---|---|
| 产品型号 | CMR 363 |
| 制造商 | 普发真空 Pfeiffer Vacuum |
| 产品类别 | 全量程真空计 |
| 测量技术 | 压阻式皮拉尼复合真空计 |
| 压力测量范围 | 1.0 x 10⁵ Pa … 1.0 x 10⁻⁴ Pa (1000 mbar … 10⁻⁶ mbar) |
| 精度 | ±30% (1 x 10⁻⁴ 至 1 x 10⁻³ Pa), ±15% (其他范围,典型值) |
| 显示与控制 | 集成LCD显示屏,双设定点继电器 |
| 输出信号 | 0-10 V DC 线性模拟量输出 |
| 通信接口 | RS-485 (支持Modbus RTU协议) |
| 传感器连接 | 标准DIN 40 KF法兰 |
| 供电电源 | 24 V DC |
| 防护等级 | IP40 |
产品简介
普发真空 CMR 363 是一款高性能、模块化的全量程真空测量仪表,完美结合了压阻技术(用于中高真空范围)和皮拉尼技术(用于中低真空范围)。该产品能够在一个紧凑的单元内实现从大气压到高真空的宽范围、连续压力测量,无需在不同压力段切换不同的真空计。CMR 363 的核心价值在于为复杂的真空工艺提供了一种简化、可靠且高性价比的监控解决方案。
作为普发真空模块化测量产品线的重要成员,CMR 363 的技术定位是满足工业真空应用中对可靠性、集成便利性和智能通信的日益增长的需求。在半导体制造、镀膜、热处理、分析仪器及科研实验等自动化真空系统中,CMR 363 扮演着“过程之眼”的关键角色。它持续监测真空腔体的压力状态,并通过其模拟量和数字接口将压力数据实时传送给PLC或中央控制系统,是实现精确工艺控制、安全联锁和序列自动化的基础。
典型应用场景
普发真空 CMR 363 凭借其宽量程和高可靠性,在众多需要精确真空监测和控制的工业及科研领域发挥着关键作用。
在半导体前端制造和后端封装工艺中,CMR 363 被广泛应用于PVD、CVD、蚀刻和离子注入设备的真空腔体,全程监控从大气破空到高真空工艺完成的每一个压力阶段。在光学镀膜和装饰镀膜生产线中,它精确监测蒸发或溅射过程中的真空度,确保膜层厚度和质量的一致性。
在热处理行业(如真空钎焊、烧结炉)和加速器、同步辐射等大型科研装置中,CMR 363 提供可靠的真空监测,保障工艺安全和设备正常运行。此外,在电子显微镜、质谱仪等高端分析仪器中,它也是维持和分析仪器内部工作环境真空度的核心传感器。
相关型号推荐
- CMR 361:与CMR 363 同系列,可能在某些功能(如通信接口或继电器数量)上有所不同。
- CMR 365:可能是该系列中功能更全面的型号,例如提供更多的继电器或更高级的通信选项。
- PKR 361:普发真空的紧凑型皮拉尼真空计,适用于不需要压阻式大气测量段的纯中低真空应用。
- TTR 系列:普发真空的潘宁真空计,适用于CMR 363 范围之外的高真空和超高真空测量。
- ACP 系列:普发真空的通用前级泵/粗抽泵,与CMR 363 监控的真空系统配套使用。
- HIPACE 系列:普发真空的涡轮分子泵,与CMR 363 协同工作,用于建立和维持高真空。

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