描述
产品概述
MKS Instruments 的 AX8407 MKS 是一款专为要求高流量、高浓度臭氧的工业应用而设计的高性能臭氧发生器。作为 SEMOZON® 系列的高端型号，它在保持 MKS 臭氧发生器一贯的高纯度、高可靠性特点的同时，显著提升了臭氧的产量和流量。AX8407 MKS 采用了先进的电晕放电技术，能够将高纯度氧气高效转化为臭氧，以满足半导体制造、LED生产、太阳能电池制造等领域对大流量、超洁净工艺气体的严苛要求。其独特的模块化设计和优化的气路系统，确保了在连续高负荷运行下的稳定性和可重复性，是集成到大型生产线中进行晶圆清洗、光刻胶剥离和薄膜沉积等关键工艺的理想选择。
技术规格
主要特点和优势
AX8407 MKS 凭借其专为大规模生产而设计的特性，提供了显著的性能和运营优势。
超高产量和流量：AX8407 MKS 最显著的特点是其卓越的臭氧产量，最高可达 300 g/hr。这使得它能够满足大尺寸晶圆（如300mm和450mm）制造工艺中对高流量臭氧的需求，尤其是在多腔室并行处理或需要快速处理的工艺中。其高产出能力直接转化为更高的生产效率和更短的工艺周期。
高可靠性和工艺稳定性：MKS 制造的 AX8407 MKS 秉承了其产品一贯的高可靠性，确保了在长期运行中的稳定性能。其优化的电晕放电管设计和精确的流量控制系统，保证了臭氧浓度的精确性和可重复性，这对于实现一致的薄膜质量和高成品率至关重要。
集成灵活性：该设备提供了丰富的远程控制选项，可以无缝集成到现有的设备控制器或工厂自动化系统中。这使得操作员可以远程监控和调整 AX8407 MKS 的参数，实现全自动化控制，减少人工干预，并提高生产线的整体效率。其设计也方便了与其他MKS组件（如流量控制器和压力传感器）的集成。
应用领域
AX8407 MKS 臭氧发生器主要应用于对臭氧流量和浓度有极高要求的半导体、LED和光伏制造领域。在半导体制造中，它被用于大批量晶圆的原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺，为大规模生产提供稳定的氧化源。在光刻胶剥离工艺中，AX8407 MKS 的高流量臭氧可以有效、快速地去除光刻胶残留，提高清洗效率。此外，它在太阳能电池制造中用于钝化层和抗反射涂层的制备，以及在OLED面板制造中用于表面处理。简而言之，AX8407 MKS 是任何需要高通量、高纯度臭氧的尖端制造工艺的理想解决方案。
相关产品
AX8407 MKS 属于 MKS 的 SEMOZON® 系列臭氧发生器，与其他型号共同构成了MKS完整的产品线，以满足不同客户的特定需求。
- AX8403A MKS: 较低流量的紧凑型臭氧发生器，适用于较小规模或研发应用。
- AX8410 PRIME: 超高流量和高浓度的臭氧发生器，针对对效率有更高要求的工艺。
- AX8580: 一体化模块化臭氧输送系统，可将多个 AX8407 MKS 集成，以支持多通道或大批量生产。
- AX8454: 高纯度氮气发生器，通常与 AX8407 MKS 配合使用，作为工艺气体的一部分。
- 925B: 气压计，用于测量和控制 AX8407 MKS 系统中的气体压力。
- MKS P-FLOW: 质量流量控制器，精确控制进入 AX8407 MKS 的氧气流量。
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