描述
应用场景
在半导体制造的晶圆刻蚀（Etch）工艺中，精确控制反应腔内的气压至关重要。任何微小的压力波动都可能导致刻蚀不均匀，影响产品良率。一家领先的半导体制造商在生产线上遭遇了这一难题：传统的真空计在长时间运行后漂移严重，且响应速度无法满足快速切换的工艺要求。通过在刻蚀腔体中直接安装AX7695PSK-10电容式真空计，工程师们成功地将气压控制精度达到了前所未有的水平，最终将晶圆良率提升了5个百分点，显著降低了生产成本。
核心参数速览
技术原理与创新价值
- 创新点1：高稳定性电容膜片技术：AX7695PSK-10的核心是一个由惰性陶瓷材料制成的高精度电容膜片。当膜片两侧的压力发生变化时，它会微小形变，导致电容值改变。MKS的专利技术确保了该膜片具有极低的温度漂移和长期稳定性，从根本上解决了传统压力计因温度变化和长期使用导致的零点漂移问题。
- 创新点2：快速响应与高分辨率：该传感器采用了先进的数字信号处理（DSP）技术，使得其响应时间可以达到20ms以内，这对于半导体、制药和化工等需要快速工艺切换的行业至关重要。
- 创新点3：全不锈钢与惰性陶瓷结构：传感器与介质接触部分采用316L不锈钢和惰性陶瓷，使其具备卓越的耐腐蚀性。这使得AX7695PSK-10能够用于测量各种腐蚀性或危险性气体，如HF、Cl2等，从而拓宽了其应用范围，并延长了产品使用寿命。
应用案例与行业价值
除了半导体制造，AX7695PSK-10在真空镀膜行业同样表现出色。在光学镀膜工艺中，真空腔内的压力需要被精确控制在特定范围内，以确保薄膜的厚度和均匀性。一家真空镀膜设备制造商在其PECVD（等离子体增强化学气相沉积）系统中集成了AX7695PSK-10。通过该传感器，系统可以实时监测腔体压力，并根据工艺曲线自动调整气体流量。客户反馈，使用AX7695PSK-10后，产品良率提升了10%以上，并且由于其出色的稳定性，校准周期得以延长，大大降低了维护成本。
相关产品组合方案
- AX7695PSK-1：与AX7695PSK-10同系列但量程更小的型号，满量程为10Torr，适用于对低真空度有更高精度要求的应用。
- 626A：MKS经典的Baratron系列电容式真空计，常作为AX7695PSK-10的备选或搭配，其满量程范围更广。
- 640B：MKS的数字式压力控制器，可以与AX7695PSK-10直接配合使用，形成一个闭环的压力控制系统。
- 925C：MKS的通用电源/显示单元，为AX7695PSK-10提供供电并显示实时压力值。
- Valve：MKS的M12/M13系列压力控制阀，与AX7695PSK-10和640B控制器配合，构成一个完整的真空压力流量控制系统。
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