描述
简要说明: AX7695PSK-10是一款由MKS Instruments公司生产的用于压力测量和控制的高精度传感器产品。它属于Capacitance Manometer(电容式真空计)系列,专门设计用于需要高准确度和稳定性的真空和压力测量应用。
应用场景
在半导体制造的晶圆刻蚀(Etch)工艺中,精确控制反应腔内的气压至关重要。任何微小的压力波动都可能导致刻蚀不均匀,影响产品良率。一家领先的半导体制造商在生产线上遭遇了这一难题:传统的真空计在长时间运行后漂移严重,且响应速度无法满足快速切换的工艺要求。他们决定升级设备,并选择了AX7695PSK-10电容式真空计。该传感器被安装在刻蚀腔体上,实时监测并反馈腔体内部的压力值。凭借其出色的长期稳定性和极快的响应速度,AX7695PSK-10与闭环控制系统完美配合,使得气压控制精度达到了前所未有的水平,最终将晶圆良率提升了5个百分点,显著降低了生产成本。
核心参数速览
技术原理与创新价值
- 创新点1:高稳定性电容膜片技术:AX7695PSK-10的核心是一个由惰性陶瓷材料制成的高精度电容膜片。当膜片两侧的压力发生变化时,它会微小形变,导致电容值改变。MKS的专利技术确保了该膜片具有极低的温度漂移和长期稳定性,即使在恶劣的工艺环境下也能保持出色的测量一致性。这从根本上解决了传统压力计因温度变化和长期使用导致的零点漂移问题。
- 创新点2:快速响应与高分辨率:该传感器采用了先进的数字信号处理(DSP)技术,使得其响应时间可以达到20ms以内,这对于半导体、制药和化工等需要快速工艺切换的行业至关重要。同时,高分辨率的模拟输出确保了即使在极小的压力变化下,也能提供精确的信号,为精细化控制提供了可能。
- 创新点3:全不锈钢与惰性陶瓷结构:传感器与介质接触部分采用316L不锈钢和惰性陶瓷,使其具备卓越的耐腐蚀性。这使得AX7695PSK-10能够用于测量各种腐蚀性或危险性气体,如HF、Cl2等,从而拓宽了其应用范围,并延长了产品使用寿命。
应用案例与行业价值
除了半导体制造,AX7695PSK-10在真空镀膜行业同样表现出色。在光学镀膜工艺中,真空腔内的压力需要被精确控制在特定范围内,以确保薄膜的厚度和均匀性。一家真空镀膜设备制造商在其PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统中集成了AX7695PSK-10。通过该传感器,系统可以实时监测腔体压力,并根据工艺曲线自动调整气体流量。这使得镀膜过程的重复性得到显著提高,薄膜质量更加稳定。客户反馈,使用AX7695PSK-10后,产品良率提升了10%以上,并且由于其出色的稳定性,校准周期得以延长,大大降低了维护成本。

OMRON F350-C41 NSFP F350C41
MODICON 372-SPU-78001PSTE NSFP 372SPU78001PSTE
ALLEN BRADLEY 1775-L4 NSFP 1775L4
ITE SIEMENS L3D340ZHCXXXXBA NSFP L3D340ZHCXXXXBA
ALLEN BRADLEY 1336F-B125-AE-EN USPP 1336FB125AEEN
ALLEN BRADLEY 1775-MSA USPP 1775MSA
COLONIAL DBMM-110-009 NSFP DBMM110009
SIEMENS 6ES7-671-0CC01-0YX0 NSFP 6ES76710CC010YX1
SIEMENS 6ES7-671-0RC02-0YX0CH NSFP 6ES76710RC020YX0
SAGINAW MACHINE CO 000W544870 NSFP 000W544870
INDRAMAT RAC3.5-150-460--A00-Z1-220 NSFP RAC35150460A00
DATA I/O 991-0014-054 USPP 9910014054
ITE SIEMENS L3F340ZGCXXXXBN NSFP L3F340ZGCXXXXBN
RELIANCE ELECTRIC SA3000DC240 USPP SA3000DC240
CUTLER HAMMER W201K6CFZ1 USPP W201K6CFZ1
RELIANCE ELECTRIC 57552-C USPP 57552C
INDRAMAT RAC2.2-200-460-A00-W1 USPP RAC22200460A00W1
SIEMENS 6ES5-948-3UA21 USPP 6ES59483UA21
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