描述
0100-71313 AMAT
0100-71313 AMAT是应用材料公司生产的高性能半导体制造设备。它被设计用于各种半导体制造工艺，包括沉积，蚀刻和清洁。
##产品参数
-最大晶圆尺寸:300mm
-工艺室:单晶圆
-气体输送系统:mfc为基础，最多4种气体
-泵系统:涡轮分子泵，干泵和低温泵
-加热系统:石英灯加热
# #应用程序
0100-71313 AMAT可用于各种半导体制造应用，包括:
-化学气相沉积(CVD)
-物理气相沉积(PVD)
-原子层沉积(ALD)
-等离子蚀刻
-反应离子蚀刻(RIE)
-湿式清洗
请注意，这不是一个详尽的清单，设备也可以用于其他应用。
如果您对0100-71313 AMAT有任何进一步的问题，请联系应用材料公司获取更多信息。
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